GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法

本文件描述了采用光反射法以20°、60°或85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。
本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试，不适用于表面有图形的硅片的测试。

标准编号：GB/T 42789-2023
标准名称：硅片表面光泽度的测试方法
英文名称：Test method for gloss of silicon wafer
发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
发布日期：2023-08-06
实施日期：2024-03-01
标准状态：现行
起草单位：浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、天津中环领先材料技术有限公司、山东有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、浙江旭盛电子有限公司、巢湖学院、金瑞泓科技(衢州)有限公司
起草人员：梁兴勃、李琴、张海英、林松青、潘金平、李素青、张雪囡、由佰玲、边永智、庄智慧、沈辉辉、焦二强、韩云霄、徐志群、付明全、詹玉峰、王可胜
文件大小：645.89KB
文件格式：PDF
文件页数：8页

标准全文下载：
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2024-4-30 16:04 上传

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