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GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

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发表于 2022-1-12 06:37:28 | 显示全部楼层 |阅读模式
本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。
本标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5 ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。

标准编号:GB/T 37049-2018
标准名称:电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
英文名称:Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
发布部门:国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
发布日期:2018-12-28
实施日期:2019-04-01
标准状态:现行
起草单位:江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司
起草人员:鲁文锋、刘晓霞、秦榕、孙燕、赵而敬、王桃霞、赵玉、王忠慧、柳德发、张园园、银波、邱艳梅、刘强
文件大小:295.48KB
文件格式:PDF
文件页数:7页

标准全文下载:
GBT 37049-2018.pdf (295.48 KB)

封面截图如下:
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