本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。
本文件适用于以下情形： ——原子序数从16（S）到92（U）的元素； ——原子表面密度介于1×1010 atoms/cm2～1×1014 atoms/cm2之间的污染元素； ——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108 atoms/cm2～5×1012 atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。
标准编号：GB/T 40110-2021
标准名称：表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
英文名称：Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
发布日期：2021-05-21
实施日期：2021-12-01
标准状态：现行
起草单位：中国计量科学研究院、华南理工大学
起草人员：王海、张艾蕊、王梅玲、任丹华、徐昕荣、范燕
文件大小：610.29KB
文件格式：PDF
文件页数：24页
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GBT 40110-2021.pdf
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封面截图如下：
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发表于 2022-2-16 21:09:28