本标准规定了用二次离子质谱法（SIMS）对重掺硅衬底单晶体中氧浓度总量的测试方法。
标准编号：SJ/T 11498-2015
标准名称：重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
英文名称：Test method for measuring oxygen contamination in heavily doped silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
发布日期：2015-04-30
实施日期：2015-10-01
文件格式：PDF
文件页数：7页
文件大小：1.65MB
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