本规范规定了平板式等离子体增强化学气相淀积设备(以下简称设备)的通用要求、质量保证规定、交货准备和说明事项。
本规范适用于平板式等离子体增强化学气相淀积设备的设计、生产、检验、验收和订购。
标准编号：SJ 21200-2016
标准名称：平板式等离子体增强化学气相淀积设备通用规范
英文名称：General specification for flat plasma enhanced chemical vapor deposition equipment
发布部门：国家国防科技工业局
发布日期：2016-12-14
实施日期：2017-03-01
文件格式：PDF
文件页数：18页
文件大小：6.07MB
标准全文下载：
文档首页截图如下：
 |
声明：
1、内容来自用户上传，仅供会员交流学习，禁止用于商业用途,下载后请在24小时之内删除；
2、如涉及侵权问题，请立即告知本站(std_123@foxmail.com)，本站将及时删除并致以最深的歉意；
