本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。
标准编号：YS/T 718-2009
标准名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
英文名称：Flat magneting sputtering target-Niobium target for optical coating
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
发布日期：2009-12-04
实施日期：2010-06-01
起草单位：利达光电股份有限公司
文件大小：345.36KB
文件格式：PDF
文件页数：5页
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