YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶

显示全部楼层 · 发表于 2021-7-27 22:05:41

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。

标准编号：YS/T 719-2009
标准名称：平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶
英文名称：Flat magneting sputtering target-silicon target for optical coating
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
发布日期：2009-12-04
实施日期：2010-06-01
标准状态：现行
起草单位：利达光电股份有限公司
文件大小：344.09KB
文件格式：PDF
文件页数：5页

标准全文下载：

YST 719-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶.pdf (344.09 KB)

封面截图如下：

		自动登录	找回密码
密码			立即注册

YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

浏览过的版块

YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶