本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
标准编号：YS/T 719-2009
标准名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
英文名称：Flat magneting sputtering target-silicon target for optical coating
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
发布日期：2009-12-04
实施日期：2010-06-01
起草单位：利达光电股份有限公司
文件大小：344.09KB
文件格式：PDF
文件页数：5页
标准全文下载：
封面截图如下：
 |
声明：
1、内容来自用户上传，仅供会员交流学习，禁止用于商业用途,下载后请在24小时之内删除；
2、如涉及侵权问题，请立即告知本站(std_123@foxmail.com)，本站将及时删除并致以最深的歉意；
