本标准规定了高纯钽中痕量元素含量的测定方法。
本标准适用于高纯钽中痕量元素含量的测定。除铌、钼、钨外各元素测定范围:1μg/kg～5000μg/kg，铌、钼和钨的测定范围:1μg/kg～100000μg/kg。
标准编号：YS/T 899-2013
标准名称：高纯钽化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
英文名称：Methods for chemical analysis of high purity tantalum-Determination of trace impurity element content-Glow discharge mass spectrometry
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
起草单位：北京有色金属研究总院、金川集团股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司
文件大小：214.81KB
文件格式：PDF
文件页数：5页
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