标准编号：YS/T 935-2013
标准名称：电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
英文名称：Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
标准状态：现行
起草单位：有研亿金新材料股份有限公司
文件大小：200.42KB
文件格式：PDF
文件页数：5页
发表于 2021-10-5 13:56:30
