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YS/T 936-2013 集成电路器件用镍钒合金靶材

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发表于 2021-10-5 16:07:17 | 显示全部楼层 |阅读模式
本标准规定了集成电路器件用镍钒合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及订货单或合同内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类镍钒合金溅射靶材。

标准编号:YS/T 936-2013
标准名称:集成电路器件用镍钒合金靶材
英文名称:Sputtering nickel vanadium alloy target used in integrated circuit device
发布部门:工业和信息化部
发布日期:2013-10-17
实施日期:2014-03-01
标准状态:现行
起草单位:有研亿金新材料股份有限公司、北京有色金属研究总院、宁波江丰电子材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所
文件大小:324.59KB
文件格式:PDF
文件页数:15页

标准全文下载:
YST 936-2013 集成电路器件用镍钒合金靶材.pdf (324.59 KB)

封面截图如下:
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