本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。
本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料，通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材。
标准编号：YS/T 1024-2015
标准名称：溅射用钽靶材
英文名称：Tantalum sputtering targets
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
发布日期：2015-04-30
实施日期：2015-10-01
起草单位：宁夏东方钽业股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司、西安方科新材料科技有限公司
文件大小：247.08KB
文件格式：PDF
文件页数：9页
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