本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。
本文件适用于p<100>直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200 mm～450 mm的硅电极及硅环。
标准编号：GB/T 41652-2022
标准名称：刻蚀机用硅电极及硅环
英文名称：Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
发布日期：2022-07-11
实施日期：2023-02-01
起草单位：有研半导体硅材料股份公司、山东有研半导体材料有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司
起草人员：库黎明、孙燕、闫志瑞、张果虎、夏秋良、潘金平
文件大小：496.87KB
文件格式：PDF
文件页数：8页
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