T/STIC 110080-2022 化学气相沉积法（CVD）培育钻石裸钻

显示全部楼层 · 发表于 2024-12-26 18:37:27

本文件规定了化学气相沉积法（以下简称CVD）培育钻石裸钻的产品特性、技术要求、检验方法、检验规则、包装与标志等方面的内容。
本文件适用于颜色级别为D～F色，净度级别为FL～VS1，质量大于或等于0.6000g（3.00ct）CVD培育钻石裸钻的生产、检验和销售。

标准编号：T/STIC 110080-2022
标准名称：化学气相沉积法（CVD）培育钻石裸钻
英文名称：Loose laboratory-grown diamond by chemical vapor deposition technique
发布部门：上海市检验检测认证协会
发布日期：2022-07-30
实施日期：2022-08-10
标准状态：现行
起草单位：上海征世科技股份有限公司、上海铂世光半导体科技有限公司、上海钲戴梦商贸有限公司、武汉工程大学材料科学与工程学院、方圆标志认证集团上海有限公司、上海市检验检测认证协会
起草人员：龚闯、满卫东、胡庆坡、韩初、杨春梅、杨武、骆海燕、高春燕、郑学东
文件大小：534.29KB
文件格式：PDF
文件页数：22页

标准全文下载：

TSTIC 110080-2022.pdf (534.29 KB)

封面截图如下：

		自动登录	找回密码
密码			立即注册

T/STIC 110080-2022 化学气相沉积法（CVD）培育钻石裸钻

相关帖子