本文件规定了硅基厚金属电镀工艺的加工能力 、保障条件 、材料 、安全与环境操作 、检验等技术要求 ,确立了硅基厚金属电镀工艺加工的程序 。
本文件适用于硅基MEMS制造技术中厚金属膜多层布线的电镀加工 。
标准编号：T/CI 512-2024
标准名称：硅基厚金属膜电镀工艺技术规范
英文名称：Technicalspecificationsforcriterionofthesilicon-basedthickmetalfilm electroplatingprocess
发布部门：中国国际科技促进会
发布日期：2024-09-18
实施日期：2024-09-18
起草单位：清华大学、东南大学、上海交通大学、启元实验室、中国航天科技集团公司九院704所、淄博高新技术产业开发区MEMS研究院、广州天极电子科技股份有限公司、深圳市联合蓝海应用材料科技股份有限公司、苏州厚朴传感科技有限公司、北京旺凡科技有限公司、北京高科中创科学技术中心
起草人员：赵晓光、孙云娜、李霁、尹玉刚、刘瑞涛、边潍、吴宇、梅子麒、梁潮、宋志强、周元楷、樊玉静、丁明建、任长友、周东平、王德周
文件大小：3.71MB
文件格式：PDF
文件页数：17页
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