T/NXCL 28-2024 半导体级单晶硅生长用合成石英坩埚

显示全部楼层 · 发表于 2024-3-3 19:29:41

本文件规定了半导体级单晶硅生长用合成石英坩埚的术语和定义、规格尺寸、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存等方面的内容。
本文件适用于合成石英砂（成分：二氧化硅）为内层原料，采用电弧熔融法工艺生产，应用于直拉法半导体级单晶硅生长的石英坩埚。

标准编号：T/NXCL 28-2024
标准名称：半导体级单晶硅生长用合成石英坩埚
英文名称：Synthetic quartz crucible for semiconductor grade monocrystalline silicon growth
发布部门：宁夏材料研究学会
发布日期：2024-02-02
实施日期：2024-02-02
标准状态：现行
起草单位：宁夏盾源聚芯半导体科技股份有限公司、宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司、宁夏大学、宁夏高创特能源科技有限公司、宁夏旭樱新能源科技有限公司
起草人员：李长苏、熊欢、何玉鹏、陈荣贵、王建军、史海贝、闫素婷、陈金莲、马万保、马荣天、王黎光、芮阳、李海波、盛旺、田宝春
文件大小：1.17MB
文件格式：PDF
文件页数：8页

标准全文下载：

TNXCL 28-2024 半导体级单晶硅生长用合成石英坩埚.pdf (1.17 MB)

封面截图如下：

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T/NXCL 28-2024 半导体级单晶硅生长用合成石英坩埚

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