T/CEMIA 036-2023 半导体显示用高碱浓度负胶显影液

本文件适用于由氢氧化钾、表面活性剂和水组成，其中氢氧化钾的质量百分比大于8%的半导体显示用高碱浓度负胶显影液。此半导体显示用高碱浓度负胶显影液主要用于半导体制程中负性光刻胶的显影，及薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）或有机发光二极管显示器（OLED）彩膜工艺光刻胶的显影。

标准编号：T/CEMIA 036-2023
标准名称：半导体显示用高碱浓度负胶显影液
英文名称：High alkali concentration negative photoresist developer for semiconductor display
发布部门：中国电子材料行业协会
发布日期：2023-11-06
实施日期：2023-11-30
标准状态：现行
起草单位：福建省佑达环保材料有限公司、福州大学、福建华佳彩有限公司
起草人员：刘小勇、侯琳熙、姚慧君、田博、肖龙强、黄晓莉、黄子勗、房龙翔、陈泽生、肖小江、邱小真、叶鑫煌、李丛香、吴玲玲
文件大小：370.38KB
文件格式：PDF
文件页数：3页

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2024-8-29 17:59 上传

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