本标准规定了MEMS高深宽比结构深度光谱反射测量的测量原理、测量设备、测量要求、测量方法、测量结果的不确定度评定、合成相对不确定度评定、扩展相对不确定度评定以及测试报告等内容。
本标准适用于多种半导体材料上MEMS高深宽比刻蚀结构的深度测量。刻蚀结构包括但不限于单体和阵列的沟槽、柱和孔等。
标准编号：T/ZOIA 30001-2022
标准名称：MEMS高深宽比结构深度测量方法 光谱反射法
发布部门：中关村光电产业协会
发布日期：2022-12-29
实施日期：2022-12-29
起草单位：中国科学院微电子研究所、中关村光电产业协会、天津大学、北京绿色制造产业联盟、凌云光技术股份有限公司、北京大学、中国计量科学研究院、北京总部企业协会
起草人员：陈晓梅、霍树春、卢永红、胡春光、杨艺、曲扬、杨芳、施玉书、马晓雪、谷焱绯
文件格式：PDF
文件页数：9页
文件大小：610.38KB
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