T/ICMTIA 4.1-2020 集成电路用氟化氩光刻胶单体第1部分：液体甲基丙烯酸酯类

显示全部楼层 · 发表于 2021-11-23 13:59:01

本文件适用于由有机原料、溶剂、适宜阻聚剂等组分合成经精制后可适用于氟化氩树脂制备用的单体。
标准编号：T/ICMTIA 4.1-2020
标准名称：集成电路用氟化氩光刻胶单体第1部分：液体甲基丙烯酸酯类
英文名称：ArF photoresist monomer for integrated circuits Part 1: Liquid methacrylate
发布部门：中关村集成电路材料产业技术创新联盟
发布日期：2020-12-31
实施日期：2021-03-01
标准状态：现行
文件格式：PDF
文件页数：16页
文件大小：433.08KB

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